„Vékonyréteg leválasztás” változatai közötti eltérés
6. sor: | 6. sor: | ||
=== Fizikai elméleti alapok === | === Fizikai elméleti alapok === | ||
− | |||
==== Egyensúlyi telített gőznyomás ==== | ==== Egyensúlyi telített gőznyomás ==== | ||
<wlatex> | <wlatex> |
A lap 2013. március 24., 12:30-kori változata
SZERKESZTÉS ALATT!!
Vákuumpárologtatás / vákuumgőzölés
A vákuumpárologtatás - vékonyrétegek előállítására szolgáló - fizikai gőzfázisú leválasztási eljárás (PVD, Physical Vapor Deposition). A leválasztani kívánt anyagot vákuumtérben - magas hőmérsékletre hevítve - elpárologtatják, majd az a bevonni kívánt munkadarab / hordozó / szubsztrát felületére lekondenzálva kialakítja a vékonyréteget.
Fizikai elméleti alapok
Egyensúlyi telített gőznyomás
Egy zárt rendszerben 0 K-nél magasabb, állandó T hőmérsékleten az anyag felületéről kilépő és a felületre visszatérő atomok dinamikus egyensúlyban vannak, melyet az adott hőmérséklethez tartozó P egyensúlyi telített gőznyomással (tenzióval) jellemezhetünk. Az egykomponensű rendszer két fázisának egyensúlyi feltételét a Clausius-Clapeyron egyenlet adja meg:
ahol a fázisátalakuláshoz szükséges moláris hőmennyiség, pedig a két fázis móltérfogatának különbsége .
Szilárd-gőz fázisátalakulás esetén a szilárd fázis moláris térfogata elhanyagolható a gőz fázis moláris térfogata mellett, így a (R: az egyetemes gázállandó) összefüggést az Sablon:EquationNote egyenletbe behelyettesítve az alábbi összefüggést kapjuk: