„Vákuumtechnika” változatai közötti eltérés
Lenk (vitalap | szerkesztései) |
Lenk (vitalap | szerkesztései) |
||
| 25. sor: | 25. sor: | ||
A tudomány és a technika számos területén a levegő jelenléte zavaró lehet. Ennek egyik oka, hogy az atmoszférikus nyomású gázokban a legtöbb részecske szabad úthossza igen rövid. Ez azt jelenti, hogy pl. a sugárforrásból származó részecskék jelentős része nem tud eljutni a detektorig anélkül, hogy kölcsönhatásba ne lépne a környező gázzal, ami energiaveszteséggel, illetve a részecske haladási irányának megváltozásával járhat. | A tudomány és a technika számos területén a levegő jelenléte zavaró lehet. Ennek egyik oka, hogy az atmoszférikus nyomású gázokban a legtöbb részecske szabad úthossza igen rövid. Ez azt jelenti, hogy pl. a sugárforrásból származó részecskék jelentős része nem tud eljutni a detektorig anélkül, hogy kölcsönhatásba ne lépne a környező gázzal, ami energiaveszteséggel, illetve a részecske haladási irányának megváltozásával járhat. | ||
| − | Fontos | + | Fontos emellett megemlíteni azt is, hogy az atmoszférából gázrészecskék adszorbeálónak a szilárd testek felületére. Ez bizonyos esetekben (pl. felületanalitikai mérések) szintén problémát jelent. |
Ezek a problémák általában csak a nyomás csökkentésével orvosolhatóak. A vákuumtechnika foglalkozik minden olyan berendezéssel, amely az atmoszférikus nyomásnál alacsonyabb nyomáson üzemel. | Ezek a problémák általában csak a nyomás csökkentésével orvosolhatóak. A vákuumtechnika foglalkozik minden olyan berendezéssel, amely az atmoszférikus nyomásnál alacsonyabb nyomáson üzemel. | ||
Az egyes alkalmazások igényeinek megfelelően a különböző berendezések – az előállított vákuum szempontjából – igen széles tartományban üzemelnek. A részecskék szabad úthossza általában már 10<sup>-5</sup> – 10<sup>-6</sup> mbar nyomáson összemérhetővé válik a berendezések karakterisztikus méreteivel. Ahhoz azonban, hogy egy felület tisztaságát egy mérés, vagy egy technológiai lépés során megtartsuk ennél sokkal jobb vákuumra van szükség. Ennek megfelelően a felületanalitikai- vagy pl. a molekulasugaras epitaxiás berendezések általában a 10<sup>-9</sup> – 10<sup>-10</sup> mbar-os tartományban üzemelenek. | Az egyes alkalmazások igényeinek megfelelően a különböző berendezések – az előállított vákuum szempontjából – igen széles tartományban üzemelnek. A részecskék szabad úthossza általában már 10<sup>-5</sup> – 10<sup>-6</sup> mbar nyomáson összemérhetővé válik a berendezések karakterisztikus méreteivel. Ahhoz azonban, hogy egy felület tisztaságát egy mérés, vagy egy technológiai lépés során megtartsuk ennél sokkal jobb vákuumra van szükség. Ennek megfelelően a felületanalitikai- vagy pl. a molekulasugaras epitaxiás berendezések általában a 10<sup>-9</sup> – 10<sup>-10</sup> mbar-os tartományban üzemelenek. | ||
A lap 2012. november 12., 10:47-kori változata
Elméleti összefoglaló
Bevezetés
A tudomány és a technika számos területén a levegő jelenléte zavaró lehet. Ennek egyik oka, hogy az atmoszférikus nyomású gázokban a legtöbb részecske szabad úthossza igen rövid. Ez azt jelenti, hogy pl. a sugárforrásból származó részecskék jelentős része nem tud eljutni a detektorig anélkül, hogy kölcsönhatásba ne lépne a környező gázzal, ami energiaveszteséggel, illetve a részecske haladási irányának megváltozásával járhat.
Fontos emellett megemlíteni azt is, hogy az atmoszférából gázrészecskék adszorbeálónak a szilárd testek felületére. Ez bizonyos esetekben (pl. felületanalitikai mérések) szintén problémát jelent.
Ezek a problémák általában csak a nyomás csökkentésével orvosolhatóak. A vákuumtechnika foglalkozik minden olyan berendezéssel, amely az atmoszférikus nyomásnál alacsonyabb nyomáson üzemel.
Az egyes alkalmazások igényeinek megfelelően a különböző berendezések – az előállított vákuum szempontjából – igen széles tartományban üzemelnek. A részecskék szabad úthossza általában már 10-5 – 10-6 mbar nyomáson összemérhetővé válik a berendezések karakterisztikus méreteivel. Ahhoz azonban, hogy egy felület tisztaságát egy mérés, vagy egy technológiai lépés során megtartsuk ennél sokkal jobb vákuumra van szükség. Ennek megfelelően a felületanalitikai- vagy pl. a molekulasugaras epitaxiás berendezések általában a 10-9 – 10-10 mbar-os tartományban üzemelenek.
